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Einbau eines Raster-Nahfeld-Mikroskops in eine Hochvakuumkammer


Project Details
Project duration: 01/199512/1995


Abstract
Es wurde ein Meßkopf aufgebaut, der in Verbindung mit einem in der technischen Physik entwickelten modularen Raster-Nahfeld-Mikroskop die Durchführung von STM- und AFM-Messungen (sowie weiterer Raster-Nahfeldmikroskopien) im Hochvakuum erlaubt. Die zugehörige Vakuumkammer wurde mit einem Probenhalter ausgestattet, der Messungen bis zu einer Temperatur von 80 ?C ermöglicht. Zudem können definiert hochreine Gase in die Kammer eingeleitet werden. Damit wird die Untersuchung von Oberflächen und dünnen Schichten als Funktion der Temperatur und der Gasumgebung mittels STM und AFM ermöglicht. Der Aufbau wurde Ende 1995 abgeschlossen; erste Untersuchungen werden insbesondere die Oberflächen von Diamantschichten betreffen.

Last updated on 2017-11-07 at 14:09