Project without external funding

Untersuchung von on-wafer S-Parametermeßtechnik und FET Kleinsignalersatzschaltbildextraktionsverfahren


Project Details
Project duration: 01/199312/2002


Abstract
Untersuchung unterschiedlicher Kalibrationsverfahren für die on-wafer S-Parametermeßtechnik. Vergleich unterschiedlicher Verfahren für die Extraktion der FET Kleinsignalersatzschaltbildelemente. Die Grundlagen hierfür sind etabliert, schwerpunktmässig wird jetzt die Modellierung modernster Sub-Mikrometer-Bauelemente verfolgt, speziell auf der Grundlage ultrabreitbandiger 'on-wafer'- Messdaten bis 120 GHz.

Last updated on 2017-11-07 at 13:29