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Strukturelle und elektronische Eigenschaften ultradünner Metallschichtsysteme


Project Details
Project duration: 01/200003/2003


Abstract
Wird ein ultradünner Metallfilm (Dicke wenige Monolagen) auf der Oberfläche eines Metalls deponiert, so können sich seine strukturellen und elektronischen Oberflächeneigenschaften drastisch von denen des "dicken" Volumkristalls unterscheiden. Einerseits ist es möglich, daß im Interfacebereich "neue" Legierungen gebildet werden, die im thermodynamischen Volumengleichgewicht nicht herstellbar sind. Andererseits ändern sich oft die Chemisorptionseigenschaften, so daß sich neue katalytische Reaktionskanäle beobachten lassen. Schließlich kann ein Adsorbat auch zu einer geometrischen Umordnung der vorher aufgewachsenen ultradünnen Metallschicht führen. Wir untersuchen die im o.g. Kontext relevanten Aufwachsprozesse, die erzielte atomare Geometrie, ggf. die Legierungsbildung, die Adsorptionseigenschaften bei Angebot von Gasen und ggf. auch adsorbatinduzierte Umstrukturierung mit verschiedenen elektronenspektroskopischen Methoden. Dabei werden bevorzugt elektronische Oberflächen- bzw. Grenzflächenzustände als "Sonden" für die Eigenschaften der Oberfläche analysiert. Als besondere "Lichtquelle" wird auch monochromatisierte Synchrotronstrahlung (am Speicherring BESSY in Berlin) eingesetzt.


Publications
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