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Entwicklung neuartiger Trockenätzverfahren für III/V-Halbleiter


Project Details
Project duration: 01/200012/2004


Abstract
Moderne optische bzw. mikromechanische Bauelemente stellen oft extrem hohe Anforderungen an die Strukturierungsverfahren. Ziel des Projektes ist die Entwicklung von plasmaunterstützten Verfahren mit neuartigen Prozessgasen.

Last updated on 2017-11-07 at 15:00