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Failure stress of epitaxial silicon thin films
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Aufsatz in einer Fachzeitschrift
Failure stress of epitaxial silicon thin films
Details zur Publikation
Autor(inn)en
:
Käsewieter, J.; Kajari-Schröder, S.; Niendorf, T.; Brendel, R.
Publikationsjahr
:
2013
Zeitschrift
:
Energy Procedia
Seitenbereich
:
926-932
Jahrgang/Band
:
38
ISSN
:
1876-6102
DOI
:
http://dx.doi.org/10.1016/j.egypro.2013.07.366
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Zuletzt aktualisiert 2021-27-01 um 07:50