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Si-Membranen für Mikromechanische Anwendungen
Project Details
Abstract
Für die reproduzierbare Herstellung von streßfreien, glatten großflächigen Si-Membranen wurden elektrochemische Ätzverfahren entwickelt. Es wurden streßfreie gespannte Membranen von 4" Durchmesser im Dickenbereich 1mikrometer bis 20 mikrometer hergestellt. Diese Membranen, bzw. die entwickelten Prozesse finden Verwendung bei der Herstellung von Masken für die Ionen-, Elektronen-und Röntgen-Projektionslithographie sowie in mikromechanischen Systemen (Mikromotoren, Ventile, etc.).
