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Untersuchung von on-wafer S-Parametermeßtechnik und FET Kleinsignalersatzschaltbildextraktionsverfahren
Project Details
Project duration: 01/1993–12/2002
Abstract
Untersuchung unterschiedlicher Kalibrationsverfahren für die on-wafer S-Parametermeßtechnik. Vergleich unterschiedlicher Verfahren für die Extraktion der FET Kleinsignalersatzschaltbildelemente. Die Grundlagen hierfür sind etabliert, schwerpunktmässig wird jetzt die Modellierung modernster Sub-Mikrometer-Bauelemente verfolgt, speziell auf der Grundlage ultrabreitbandiger 'on-wafer'- Messdaten bis 120 GHz.
