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Mechanische Spannungen und deren Auswirkungen auf strukturelle und magnetische Eigenschaften von dünnen Schichten
Project Details
Project duration: 01/1997–12/2002
Abstract
Es wurden kapazitive Sensoren und ein phasenempfindliches Michelson-Interferometer entwickelt, mit denen mechanische Spannungen in dünnen Schichten während der Herstellung, während nachträglicher Behandlungsprozesse und während der Ummagnetisierung gemessen werden können. Diese Methoden werden bei mehreren unterschiedlichen Schichtsystemen eingesetzt. Ziel ist es, die Entstehung der mechanischen Spannungen beim reaktiven Sputterprozeß und bei der Ionenbestrahlung zu verfolgen und ihren Einfluß auf das Verhalten von Funktionsschichten zu untersuchen, z. B. bei Hartstoffschichten und bei magnetischen und magnetooptischen Datenspeichern.
