ohne Drittmittelfinanzierung
Präzise Strukturmeßtechnik mit lasergestützter Mikroellipsometrie
Details zum Projekt
Projektlaufzeit: 08/1995–10/2002
Zusammenfassung
Ein neuartiger Ansatz (ellipsometrische Topographie) für die konsistente Vermessung von Feinststrukturen auf Oberflächen soll untersucht werden. Aufbauend auf bekannten ellipsometrischen Meßverfahren sollen neue wissenschaftliche Methoden (Mikrofokus-Ellipsometrie, Teilstrahlauswertung, Differential-Topometrie, Referenzschicht-Methode) zur Materialanalyse, zur topographischen Beschreibung von Oberflächen und zur Ortung von Mikro-Fehlstellen erarbeitet werden. Hierbei wird vertikal und auch lateral eine Subwellenlängenauflösung angestrebt. Rauhigkeiten sollen durch die erstmalige ellipsometrische Auswertung von Specklefeldern bzw. mit theoretischen Ansätzen zur Mikrorauhigkeit quantifiziert werden.
Publikationen
1999 | |
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