Strukturelle und elektronische Eigenschaften ultradünner Metallschichtsysteme - Forschungsinformationssystem | Universität Kassel

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Strukturelle und elektronische Eigenschaften ultradünner Metallschichtsysteme

Details zum Projekt

Projektlaufzeit: 01/2000–03/2003

Zusammenfassung

Wird ein ultradünner Metallfilm (Dicke wenige Monolagen) auf der Oberfläche eines Metalls deponiert, so können sich seine strukturellen und elektronischen Oberflächeneigenschaften drastisch von denen des "dicken" Volumkristalls unterscheiden. Einerseits ist es möglich, daß im Interfacebereich "neue" Legierungen gebildet werden, die im thermodynamischen Volumengleichgewicht nicht herstellbar sind. Andererseits ändern sich oft die Chemisorptionseigenschaften, so daß sich neue katalytische Reaktionskanäle beobachten lassen. Schließlich kann ein Adsorbat auch zu einer geometrischen Umordnung der vorher aufgewachsenen ultradünnen Metallschicht führen. Wir untersuchen die im o.g. Kontext relevanten Aufwachsprozesse, die erzielte atomare Geometrie, ggf. die Legierungsbildung, die Adsorptionseigenschaften bei Angebot von Gasen und ggf. auch adsorbatinduzierte Umstrukturierung mit verschiedenen elektronenspektroskopischen Methoden. Dabei werden bevorzugt elektronische Oberflächen- bzw. Grenzflächenzustände als "Sonden" für die Eigenschaften der Oberfläche analysiert. Als besondere "Lichtquelle" wird auch monochromatisierte Synchrotronstrahlung (am Speicherring BESSY in Berlin) eingesetzt.

Publikationen

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1996	Kürpick, U., Meister, G., Goldmann, A., 1996. Influence of oxygen on the mass diffusion of Ag on Cu(110) - a laterally resolved photoemission study 99, 221. https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00109-2
1996	Sloboshanin, S., Engelhard, H., Stietz, F., Schaefer, J.A., Goldmann, A., 1996. Reactive intermixing at the Au-InP(100) interface - new photoemission results 369, 209. https://doi.org/10.1016/S0039-6028(96)00906-5