ohne Drittmittelfinanzierung
Entwicklung neuartiger Trockenätzverfahren für III/V-Halbleiter
Details zum Projekt
Projektlaufzeit: 01/2000–12/2004
Zusammenfassung
Moderne optische bzw. mikromechanische Bauelemente stellen oft extrem hohe Anforderungen an die Strukturierungsverfahren. Ziel des Projektes ist die Entwicklung von plasmaunterstützten Verfahren mit neuartigen Prozessgasen.
