Aufsatz in einer Fachzeitschrift
Single-step inductively coupled plasma etching of sputtered Nb 2 O 5 /SiO 2 multilayer stacks using chromium etch mask
Details zur Publikation
Autor(inn)en: | Taimoor, M.; Alatawi, A.; Reuter, S.; Hillmer, H.; Kusserow, T. |
Publikationsjahr: | 2017 |
Seitenbereich: | TBD |
Jahrgang/Band : | 35 |
Heftnummer: | 4 |
